Sistema de vácuo inverso gráfico inteligente / forno de amôniaFundo personalizado

Ao expor gráficos de pequeno tamanho, tendemos a usar cola positiva, o que já foi discutido anteriormente. Uma das razões é que a cola positiva é adequada para fazer buracos usando uma máscara de campo escuro. A versão de máscara de campo escuro é principalmente coberta por cromo, porque o cromo não é tão frágil quanto o vidro, por isso há menos defeitos. No entanto, algumas versões de máscaras são usadas para expor a área da ilha, em vez de buracos, como a imagem da ilha na máscara de camada metálica. Infelizmente, a gravação da ilha com cola positiva requer a utilização de uma versão de máscara de campo luminoso, e seu vidro é facilmente danificado.

Um processo de uso de cola positiva e versões de máscara de campo escuro para fazer a área da ilha é a inversão da imagem. Ele usa o método tradicional de imagem de máscara de campo escuro (veja a imagem abaixo), e após a exposição, o gráfico no fotogravura é o oposto do gráfico desejado, ou seja, se for exibido em seguida, será obtido um buraco em vez de uma ilha.

Sistema de vácuo inverso gráfico inteligente/forno de amônia padrão de processo

O principal passo no processo de inversão gráfica é colocar os wafers colados em um sistema de vácuo gráfico inteligente/forno de amônia com vapor de amônia. O vapor de amônia penetra na cola fotográfica, mudando sua polaridade. O wafer é retirado do forno a vácuo e exposto à luz inundada para completar todo o processo de inversão gráfica. O efeito da cocção a gás amônico e da exposição a inundação é alterar a decomposição relativa das áreas expostas e não expostas, o que permite a inversão gráfica nas etapas de imagem seguintes. Este processo permite a mesma resolução do processo de reversão não gráfica.