Vantagens do Equipamento de Limpeza de Plasma

NegociávelAtualização em05/06

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Visão geral

A vantagem do equipamento de purificação de plasma ocupa uma área pequena; Velocidade de reação rápida, o tratamento do purificador de gás de escape de plasma é bom, o purificador de gás de escape de plasma pode decompor a substância odorosa *; Iniciar e parar muito rápido, ou seja, abrir e usar, não é afetado pela temperatura, operação simples; Só é necessária eletricidade durante a reação, sem adicionar outros auxiliares ou enchimentos.

Detalhes do produto

Vantagens do Equipamento de Limpeza de PlasmaPrincípio de limpeza:

O princípio da tecnologia de plasma de baixa temperatura para o tratamento de poluentes é: sob o efeito do campo elétrico adicional, a descarga de mídia produz uma grande quantidade de eletrões portáteis bombardeando as moléculas de poluentes, ionizando-as, desligando-as e excitando-as, então desencadeando uma série de reações físicas e químicas complexas, transformando poluentes macromoleculares complexos em substâncias seguras de moléculas pequenas simples ou transformando substâncias tóxicas e perigosas em substâncias não tóxicas ou menos tóxicas, permitindo que os poluentes sejam degradados e removidos. Como a energia elétrica média gerada após a ionização é de 10ev, as condições de reação controladas adequadas podem permitir que reações químicas geralmente difíceis de realizar ou lentas se tornem muito rápidas. Como uma tecnologia de alta tecnologia com vantagens potenciais no campo do tratamento da poluição ambiental, o plasma recebeu alta atenção da comunidade disciplinar relevante no país e no exterior.

Vantagens do Equipamento de Limpeza de PlasmaPrecauções de uso:

Quando as condições forem satisfeitas, a eficiência de limpeza da limpeza fotolítica UV pode atingir mais de 99,9%.

Se a substância odorosa pode ser fissurada, depende se seu enlace químico pode ser menor do que a energia dos fótons UV fornecidos.

A potência total de fótons UV fornecida é insuficiente ou o conteúdo de oxigênio é insuficiente, gerando alguns subprodutos intermediários devido à fissura ou oxidação, afetando assim a eficiência da limpeza. Para as altas concentrações de macromoléculas, a substância odorosa orgânica é mais evidente.

O tempo da reação de fissura é extremamente curto (<0,01 s), o tempo da reação de oxidação (ver reação O O O tempo de reação de oxidação) é de 2-3 s.

A purificação fotolítica UV é estável e eficiente a longo prazo, necessita de temperatura de reação < 70 ° C, quantidade de poeira < 100mg / m³, umidade relativa < 99%.

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