Grande equipamento de purificação de plasma

NegociávelAtualização em05/06

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Visão geral

O plasma em grandes equipamentos de purificação de plasma é composto por um grande número de íons, átomos neutros, átomos excitados, fótons e radicais livres, mas o número de cargas elétricas de elétrons e posições deve ser eletronicamente neutro, o que significa "plasma". O plasma tem muitos aspectos de condutividade elétrica e de influência eletromagnética diferentes dos sólidos, líquidos e gases, por isso é chamado de quarto estado da matéria. Dependendo do estado, temperatura e densidade iónica, o plasma pode geralmente ser dividido em plasma de alta temperatura e plasma de baixa temperatura.

Detalhes do produto

Grande equipamento de purificação de plasmaDurante a reação química do plasma, a transferência de energia durante a reação de transferência de energia química do plasma é aproximadamente a seguinte:

(1) Campo elétrico + eletrônicos → eletrônicos de alta energia

(2) elétrons de alta energia + moléculas (ou átomos) → (átomos excitados, grupos excitados, grupos livres) grupos ativos

(3) Grupos ativos + moléculas (átomos) → produtos + calor

(4) Grupo ativo + grupo ativo → produto + calor

O processo acima pode ver que os elétrons primeiramente obtêm energia do campo elétrico, transferindo energia para moléculas ou átomos por excitação ou ionização, moléculas ou átomos que obtêm energia são excitados, ao mesmo tempo que algumas moléculas são ionizadas, tornando-se assim grupos ativos; Em seguida, esses grupos ativos colidem entre moléculas ou átomos, grupos ativos e grupos ativos para gerar produtos estáveis e calor. Além disso, os elétrons de alta energia também podem ser capturados por substâncias com maior afinidade eletrônica, como halógeno e oxigênio, tornando-se íons negativos. Esses íons negativos têm uma boa atividade química e desempenham um papel importante nas reações químicas.

Grande equipamento de purificação de plasmaPrecauções de uso:

Quando as condições forem satisfeitas, a eficiência de limpeza da limpeza fotolítica UV pode atingir mais de 99,9%.

Se a substância odorosa pode ser fissurada, depende se seu enlace químico pode ser menor do que a energia dos fótons UV fornecidos.

A potência total de fótons UV fornecida é insuficiente ou o conteúdo de oxigênio é insuficiente, gerando alguns subprodutos intermediários devido à fissura ou oxidação, afetando assim a eficiência da limpeza. Para as altas concentrações de macromoléculas, a substância odorosa orgânica é mais evidente.

O tempo da reação de fissura é extremamente curto (<0,01 s), o tempo da reação de oxidação (ver reação O O O tempo de reação de oxidação) é de 2-3 s.

A purificação fotolítica UV é estável e eficiente a longo prazo, necessita de temperatura de reação < 70 ° C, quantidade de poeira < 100mg / m³, umidade relativa < 99%.

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