Equipamento de tratamento de águas residuais

I. Visão geral das águas residuais da placa de circuito

Os poluentes no processo de produção de placas de circuito são maiores, e as águas residuais eliminadas contêm principalmente componentes poluentes como cobre, cromo, níquel, zinco, ácido e álcali. Sem uma gestão eficaz, as águas residuais podem causar poluição ambiental. O efeito amortecedor do corpo de água natural é destruído após a poluição por ácidos, álcalis e metais pesados, deteriorando a qualidade da água, inibindo ou bloqueando a atividade microbiana, reduzindo a capacidade de auto-limpeza da água, ao mesmo tempo, também pode causar danos às culturas, íons de metais pesados ​​são extremamente perigosos para a saúde física, e íons de metais pesados ​​na água não são degradados ​​por micróbios, eles podem ser absorvidos, acumulados e enriquecidos no organismo vivo, muito perigosos para os seres humanos, peixes, plancton, em casos graves podem causar redução da produção agrícola ou morte do gado. Portanto, o tratamento inofensivo deve ser realizado e os requisitos de proteção ambiental devem ser rigorosamente governados para atingir os padrões de emissão.

Composição e classificação das águas residuais da placa de circuito

A composição da qualidade da água residual da indústria de circuitos impressos é complexa e deve ser tratada de acordo com a classificação da qualidade da água, portanto, a água residual deve ser distribuída primeiro de acordo com a qualidade da água e o método de tratamento.

Os componentes comuns das águas residuais da placa de circuito impresso são:

Metais pesados: Cu, Ni, Pb, Sn, Mn, Ag, Au, Pd, etc.

Materiais orgânicos: todos os tipos de aditivos de chapa eletrônica ou química, complexantes, agentes de limpeza, tintas, estabilizantes, solventes orgânicos, etc.;

Inorgânicos: ácidos, álcalis, NH3-N (NH3 ou sal de amônio), P (vários fosfatos), F, etc.

A distribuição de águas residuais deve ser distribuída de acordo com os três tipos de Cu, Cu complexo e matéria orgânica ou mais. O Ni e o CN podem decidir se a derivação é necessária de acordo com as necessidades reais de processamento.

3, o principal componente de resíduos de desmembranagem de imagem (retiro, desmembranagem) é a resistência à corrosão, tinta e líquido de imagem. A alta concentração de COD é a principal fonte de COD de águas residuais da indústria de PCB. Suas propriedades químicas são especiais e devem ser tratadas separadamente.

Metais pesados em estado complexo Cu, Niyi e água residual em estado iónico são distribuídos e tratados separadamente.

Os resíduos devem ser classificados e coletados separadamente.

Processo de tratamento de águas residuais da placa de circuito

　　1, processo de pré-tratamento de resíduos de tinta

Os resíduos de tinta referem-se principalmente aos resíduos do processo de desmembranagem e desmembranagem, e estes resíduos contêm uma grande quantidade de filme fotosensível, resíduos de película anti-soldadura, etc. O líquido residual é alcalino, o valor de pH geralmente está entre 11 e 13; O teor de COD é muito alto, geralmente na faixa de 8000-10000mg / L.

Os principais componentes dos resíduos de tinta são os ácidos orgânicos gerados por resinas hidroxílicas em condições alcalinas, e essas resinas hidroxílicas não são facilmente solúveis em soluções ácidas. Aplicando esta propriedade básica, no tratamento de resíduos de imagem e desmembrana, pode ser adotado o método de eliminação de resíduos, o uso de resíduos de ácido eliminado na oficina de produção para o tratamento de acidificação de resíduos de tinta, se não for suficiente, pode ser adicionada solução de ácido sulfúrico.

　2, processo complexo de tratamento de águas residuais

Água residual complexa refere-se principalmente à água de lavagem emitida pela linha de gravação ácida / alcalina e linha de produção de PTH, este tipo de água residual valor ácido-alcalino é geralmente entre 4 e 9, as águas residuais não só contêm um complexo (o principal complexo é amônia < 50 mg / L, formaldeído, EDTA, etc.), mas também contém uma grande quantidade de íons metálicos (por exemplo: Cu2 + < 100 mg / L), o complexo e íons de cobre e outros íons de metais pesados ​​formam um complexo muito estável, o uso do método de precipitação de floculação geral é difícil de alcançar o tratamento das águas residuais.

Os íons de cobre gerais se precipitam em condições alcalinas, no entanto, no processo de produção de placas de circuito, alguns processos devem ser cobreados em condições alcalinas, então alguns agentes químicos como EDTA são adicionados para se ligar aos íons de cobre e a capacidade de ligação é maior do que Cu (OH0) 2, sem produzir precipitação. Portanto, neste caso, os íons de cobre podem coexistir com o OH, por isso, se essas águas residuais querem remover o cobre, primeiro é necessário romper e remover o cobre. Devido às necessidades do processo de tratamento, as águas residuais, tais como a água de lavagem contra-lavagem pré-tratada do sistema de água de reutilização e o filtro do filtro de pressão, são tratadas juntamente durante o processo de tratamento.

Alguns métodos de ruptura comumente usados ​​são: ruptura direta, ruptura de substituição, precipitação química, precipitação de capturadores de metais pesados e troca iónica.

　　Processo de tratamento de águas residuais com cianato

Água residual contendo ciano vem principalmente da linha de produção de ouro elétrico-níquel e linha de produção de ouro-níquel, água de lavagem após o processo de metal elétrico ou ouro-níquel, este tipo de água residual contém alta toxicidade CN- (<20 mg / L), requisitos ambientais para a coleta independente deste tipo de água residual, para o tratamento.

O método de precipitação de floculação geral não pode removê-lo diretamente, deve ser eliminado através da oxidação, quebrando a estrutura de ligações químicas e, finalmente, tornando-o degradável, formando CO2 e N2.

　　Processo de tratamento de águas residuais orgânicas

As águas residuais orgânicas referem-se principalmente à lavagem após a desmembranação e à lavagem da rede, da rede, da remoção de óleo e outros processos de limpeza, este tipo de águas residuais contêm uma pequena quantidade de cobre (Cu2 + < 5mg / L), a qualidade da água é alcalina (pH = 8 ~ 10), o teor de SS excede o limite e o teor de COD está dentro de 500 mg / L. As águas residuais orgânicas contêm uma pequena quantidade de íons de metais pesados, COD alto, SS alto, bioquímica pobre, não tem condições bioquímicas diretas, primeiro usando o método de precipitação de concreto para remover íons de metais pesados das águas residuais, a grande maioria das SS e parte do COD para melhorar a bioquímica das águas residuais orgânicas, em seguida, entrar no sistema bioquímico. O processo de A / O é a abreviação de bioprocesso anaeróbico-anaeróbico, que foi pioneiro no início da década de 1980, que colocou o reator anaeróbico (piscina de acidificação hidrolítica) na frente do sistema, com o objetivo de melhorar ainda mais a bioquimicidade das águas residuais por meio de acidificadores hidrolíticos que decomponem grandes moléculas orgânicas em pequenas moléculas orgânicas. Seu processo aeróbico é o método de oxidação de contato, sua estrutura de tratamento central é a piscina de óxido de contato, caracterizada pela aeração direta sob o enchimento, a biopelícula é afetada pelo aumento do fluxo de ar, agitada, acelerada a queda, atualizada, para que muitas vezes mantenha uma melhor atividade, pode evitar o bloqueio.