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Shengmei Semiconductor Equipment (Shanghai) Co., Ltd.
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Equipamento de galvanização

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Visão geral
Os equipamentos de galvanoplastia de encapsulamento avançado da SEMI podem ser aplicados às etapas-chave de galvanoplastia de encapsulamento avançado multicanal, incluindo pilar, bump e RDL. O equipamento de galvanização também pode ser usado em processos de fan-out, TSV (Through Silicon Via) e TMV (Through Molding Via).
Detalhes do produto

Equipamento de galvanização

Principais vantagens

Câmara galvanizada horizontal, sem poluição cruzada

Manutenção de câmara única para aumentar o tempo de funcionamento do equipamento

Tecnologia de vedação de borracha, melhor desempenho de vedação

Tecnologia de segundo ánodo para melhor controle da uniformidade

Controle flexível do processo


Características e especificações

兼容8寸和12寸

Até 3 portas de carga

Compatível com até 4 câmaras pré-úmidas, controle a vácuo

Até 4 câmaras de limpeza

Até 20 câmaras galvanizadas: Cu, Sn/Ag, Ni

Dimensões do dispositivo: 2050 x 5950 x 2650 mm

Desempenho do processo:
Uniformidade no filme: <5% (-mínimo/média de 2)
Uniformidade entre partes < 3%
Repetibilidade: <3%
COP: < 2,0 µm