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Shengmei Semiconductor Equipment (Shanghai) Co., Ltd.
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Equipamento PECVD

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O equipamento de deposição química de fase aumentada com plasma (PECVD) da Shengmi Shanghai pode ser aplicado ao processo de deposição de película fina SiO2, SiNx, Carbono e NDC, que pode ser expandido para o processo de deposição de película fina PEALD de uma única placa para expansão de plataforma no futuro.
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