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E-mail
zhixuling789@126.com
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Telefone
18810401088
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Endereço
Distrito de Fengtai, Pequim
Categorias do produto
- Sistema de exposição de feixe eletrônico importado
- Nano prensador
- EKC270
- Deposição de gás químico
- Gravação por plasma acoplado por indução
- Gravação iônica de reação
- Equipamento de escrita direta a laser sem máscara RAITH
- Gravadora ultravioleta profunda de alta resolução
- Máquina de ligação de fios JFP francesa
- Eletroscópio de área de trabalho
- Equipamento de escrita direta a laser
Pequim Zhongke Fuhua Tecnologia Co., Ltd.
Gravadora ultravioleta profunda Suíça de alta resolução
NegociávelAtualização em02/01
- Modelo
- Natureza do fabricante
- Produtores
- Categoria do produto
- Local de origem
Visão geral
Os equipamentos PHABLE são baseados na tecnologia de litografia de Talbot desplazada (DTL) da Eulitha para oferecer litografia de alta resolução através de um sistema de litografia de baixo custo. O DTL ultrapassa as limitações da difração na fotografia tradicional para expor padrões de ciclos submicrônicos de alta qualidade. A exposição sem contato protege simultaneamente a placa de máscara e o wafer, enquanto a tecnologia de imagem sem foco permite uma exposição uniforme em substratos não planos e fotogravuras grossas.
Detalhes do produto
O PhableR tem a capacidade de expor estruturas periódicas de alta resolução com um sistema de litografia de baixo custo. É semelhante a uma exposição UV tradicional, que aproxima a placa de máscara de um wafer revestido com fotogravura e, em seguida, irradia com um feixe de luz ultravioleta profunda. Graças à inovadora tecnologia de exposição PHABLE da Eulitha, a resolução não é mais limitada por efeitos de difração indesejados. Estruturas como rastres lineares de ciclos submicrônicos e padrões bidimensionais (como exposições de grade hexagonal e quadrangular) apresentam alta uniformidade e fidelidade.
A fotogravura PhableR 100 DUV é uma plataforma manual básica para pesquisa e desenvolvimento. Para estruturas nanocíclicas, sem necessidade de processos complexos ou experiência, é possível produzir estruturas de rastre unidimensionais e bidimensionais de grande área, uniformidade e repetibilidade. Algumas características relacionadas ao equipamento e serviços:
1. Fácil operação do equipamento
2. Boa compatibilidade com o processo frontal e posterior e equipamentos de apoio
Amplas aplicações, incluindo:
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