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Xangai Thinking Instrumentos Experimentais Co., Ltd.
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Forno a vácuo HMDS de quatro câmaras Forno multi-estação HMDS por computador

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Forno a vácuo HMDS de quatro câmaras Forno HMDS multi-estação com computador pré-processa o substrato com hexametildisilano (HMDS) de forma rápida, uniforme e econômica, aumentando assim a adesão do substrato e da cola fotográfica

Detalhes do produto

Papel principal do forno HMDS multi-estação por computador

O equipamento pré-processa o substrato de forma rápida, uniforme e econômica com hexametildisilano (HMDS), aumentando assim a adesão do substrato e da fotogravura.

A adesão fotográfica de alta qualidade é a base de todas as etapas subsequentes do processo, e somente a superfície totalmente revestida pode reproduzir com precisão o apendice confocal de sub-mícrons, evitando problemas como bordas ou corchetes. O processo de cura a vácuo pode desidratar rapidamente o substrato, permitindo que a excelente ligação formada com a camada HMDS permaneça estável mesmo após semanas de exposição à umidade atmosférica.

Forno a vácuo HMDS de quatro câmaras Forno multi-estação HMDS por computadorCaracterísticas do processo

Uniformidade do deposito químico

Melhor uniformidade do ângulo de contato

Tratamento de superfície à prova de umidade

A adesão da cola fotográfica aumenta de 3 a 5 vezes

Evite a formação de vazios para melhorar a qualidade da transferência de gráficos

Aumentar a adesão à resistência à luz

Menor consumo de hexametildisilano (HMDS)

Indústrias aplicáveis: MEMS, filtro, amplificação, dispositivos de potência, wafer, zafir, vidro, metais preciosos, SiC (carboneto de silício), GaN (nitreto de gálio), ZnO (óxido de zinco), GaO (óxido de gálio), arseneto de gálio, niobato de lítio e fósforo de índio, diamantes e outros materiais semicondutores de terceira geração.

Forno a vácuo HMDS de quatro câmaras Forno multi-estação HMDS por computadorDesempenho

Volume: 40L * 4, (1-12 polegadas produtos e fragmentos compatíveis) pode ser personalizado

Aplicação operacional: controle independente de 4 estações

Faixa de temperatura: RT + 20-200 ℃

真空度: ≤1torr

Automação: controle por computador + controle de local MES

Bomba de vácuo: bomba de vácuo turbulenta sem óleo

Funcionalidade de alerta de vazamento de líquido HMDS

Alerta de baixo nível HMDS

Funcionalidade de registro de dados de processo

Funções como proteção de bloqueio de programa